真空甩帶爐是用來制備和開發(fā)亞穩(wěn)材料(如非晶態(tài)材料)的專用設(shè)備，該設(shè)備除了具有感應(yīng)爐的全部特點(diǎn)外，還具有制備塊體金屬非晶及金屬薄帶的功能,適用于各種非晶及微晶材料的研究及實(shí)驗(yàn)工作。 　　真空甩帶爐廣泛用于新型稀土永磁材料非晶軟磁材料及納米材料科學(xué)的開發(fā)與研究。以下是主要技術(shù)參數(shù)： 　　1.樣品熔煉量：500~1000g; 　　2.輥輪尺寸：φ300mmx100mm(帶水冷); 　　3.銅棍速度：1-3000r/min; 　　4.真空度：優(yōu)于5x10-4Pa; 　　5.熔煉電源功率：35KW; 　　6.熔煉溫度：500℃-1700℃，滿足絕大多數(shù)實(shí)驗(yàn)要求; 　　7.熔煉坩堝：氮化硼; 　　8.條帶寬度：10-50mm; 　　9.真空腔尺寸：450×450×680mm (L*W*H) 　　10.設(shè)備尺寸：2050*1160*1850m(L*W*H) 　　11.標(biāo)配：主機(jī)及感應(yīng)熔煉電源 　　12.模塊化設(shè)計(jì)，占地空間小，安裝方便 　　真空甩帶機(jī)由真空室、甩帶裝置、坩堝自動(dòng)升降裝置、氣路系統(tǒng)、機(jī)殼和熔煉電源等組成。 　　1、真空室：采用304板組焊而成并做表面處理，爐門上裝有大尺寸觀察窗，既滿足高真空要求，又便于觀察實(shí)驗(yàn)情況。 　　2、甩帶裝置：采用伺服電機(jī)驅(qū)動(dòng)，無極調(diào)速，密封采用磁流體密封裝置，銅棍拆卸方便。轉(zhuǎn)動(dòng)平穩(wěn)，噪音極低。 　　3、坩堝自動(dòng)升降系統(tǒng)：采用伺服電機(jī)升降，可根據(jù)不同材料設(shè)備不同噴帶參數(shù)。 　　4、氣路系統(tǒng)：由電磁閥、壓力罐、手動(dòng)閥門和管路組成， 　　5、機(jī)殼：結(jié)合國內(nèi)外設(shè)備外觀經(jīng)驗(yàn)，根據(jù)自身設(shè)備特點(diǎn)，設(shè)計(jì)出合理機(jī)殼，外表噴塑處理; 　　6、熔煉電源：定制的專用熔煉電源，操作簡單，結(jié)構(gòu)小巧; 　　7、觸摸屏+PLC控制，可視化操作界面。 　　好了，今天的分享就到此了。如果您想了解更多關(guān)于真空燒結(jié)爐的相關(guān)知識(shí)，歡迎咨詢。

　　真空甩帶爐的使用 　　真空甩帶爐廠家采用熔態(tài)單輥旋淬法制備非晶薄帶，及真空噴鑄法制備大塊非晶材料。本設(shè)備也可用于感應(yīng)熔煉澆鑄各類合金小試樣。適用于大專院校、科研院所及企業(yè)進(jìn)行新材料的科研與小批量的生產(chǎn)。 　　真空甩帶爐甩帶功能采用氣缸升降，可實(shí)現(xiàn)石英坩堝到銅輪的距離微調(diào)、自動(dòng)下降、延時(shí)0.1~5秒自動(dòng)噴氣，每次可甩5~50g非晶薄帶或顆粒;熔煉澆注功能：可一次性熔煉50~500g金屬，熔煉好后可澆鑄在錠模內(nèi)。根據(jù)模具的尺寸，可以澆鑄直徑10mm~50mm的棒料或其他規(guī)格的成品;可以澆鑄金屬錠或者直接制備非晶金屬棒或其他異形產(chǎn)品。 　　真空甩帶爐采用直連泵加油擴(kuò)散泵(或者分子泵)，用油擴(kuò)散泵真空度可達(dá)6.67×10-3Pa,用分子泵真空度可達(dá)6.67×10-4Pa，爐體全采用不銹鋼，并做拋光處理。 　　真空熔煉爐主要由真空腔體、高頻加熱系統(tǒng)、真空系統(tǒng)、噴鑄甩帶系統(tǒng)、熔煉澆注系統(tǒng)、充放氣系統(tǒng)和控制系統(tǒng)等組成。