氣相沉積爐的特點(diǎn)是什么 　　氣相沉積爐可用于以碳?xì)錃怏w為碳源的復(fù)合材料的化學(xué)氣相沉積。其中CVD沉積爐是指高溫下的氣相反應(yīng)，例如，金屬鹵化物、有機(jī)金屬、碳?xì)浠衔锏鹊臒岱纸?，氫還原或使它的混合氣體在高溫下發(fā)生化學(xué)反應(yīng)以析出金屬、氧化物、碳化物等無機(jī)材料的方法。這種技術(shù)開始是作為涂層的手段而開發(fā)的，但目前，不只應(yīng)用于耐熱物質(zhì)的涂層，而且應(yīng)用于高純度金屬的精制、粉末合成、半導(dǎo)體薄膜等，是一個(gè)頗具特征的技術(shù)領(lǐng)域。 　　設(shè)備特點(diǎn)在于：(1)在低溫下合成高熔點(diǎn)物質(zhì);(2)析出物質(zhì)的形態(tài)在單晶、多晶、晶須、粉末、薄膜等多種;(3)不僅可以在基片上進(jìn)行涂層，而且可以在粉體表面涂層，特別是在低溫下可以合成高熔點(diǎn)物質(zhì)，在節(jié)能方面做出了貢獻(xiàn)，作為一種新技術(shù)是大有前途的。 　　下面小編詳細(xì)列舉幾條爐子的特點(diǎn)，以便大家能更好的了解爐子的性能。 　　氣相沉積爐工作區(qū)尺寸可達(dá)2.5m×2m×4.5m，能滿足超大型工件化學(xué)氣相沉積處理需求；并且，采用多溫區(qū)獨(dú)立控溫，溫度均勻性好； 　　與此同時(shí)采用特殊結(jié)構(gòu)沉積室，密封效果好，抗污染能力強(qiáng)； 　　氣相沉積爐采用多通道沉積氣路，流場(chǎng)均勻，無沉積死角，沉積效果好； 　　氣相沉積爐對(duì)炭沉積過程中產(chǎn)生的焦油、固體粉塵、有機(jī)氣體等能進(jìn)行有效處理。

　　真空甩帶爐的優(yōu)勢(shì)有哪些呢 　　真空甩帶爐的優(yōu)勢(shì)有哪些呢？今天八佳的小編就和大家說說。 　　1、加熱速度快，氧化脫碳少 　　由于真空甩帶爐感應(yīng)加熱的原理為電磁感應(yīng),其熱量是由于工件自身產(chǎn)生，該加熱方式升溫速度快,氧化極少,加熱效率高,工藝重復(fù)性好,金屬表面只有很輕微脫色,輕微拋光就可使表面恢復(fù)鏡面光亮,從而有效獲得恒定一致的材料性能。 　　2、自動(dòng)化程度高,可實(shí)現(xiàn)全自動(dòng)無人操作,提高勞動(dòng)生產(chǎn)率。 　　3、加熱均勻,溫度控制精度高 　　真空甩帶爐加熱均勻，保證加熱工件芯表溫差小，通過溫度控制系統(tǒng)可對(duì)溫度進(jìn)行控制，保證產(chǎn)品重復(fù)精度。 　　4、感應(yīng)爐體的更換簡(jiǎn)便 　　根據(jù)加工工件尺寸的不同，需配置不同規(guī)格的感應(yīng)爐體。各真空甩帶爐爐體均設(shè)計(jì)有水電快換接頭,使?fàn)t體更換簡(jiǎn)便、快速、方便。 　　5、設(shè)備保護(hù)齊全 　　真空熔煉爐整機(jī)設(shè)有水溫、水壓、缺相、過壓、過流、限壓/限流、啟動(dòng)過流、恒流和緩沖啟動(dòng),使設(shè)備啟動(dòng)平穩(wěn)、保護(hù)可靠迅速、運(yùn)行穩(wěn)定。